抛光设备和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580020375.3

申请日：

2005-06-20

公开(公告)号：

CN1972780B

公开(公告)日：

2007-05-30

发明(设计)人：

小林洋一广尾康正大桥刚

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B4910

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

王永建

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-07-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-05-30	公开	公开
2010-09-08	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光设备和抛光方法 [P].

福田明 ;

望月宣宏 ;

广川一人 .

中国专利 :CN101128285A ,2008-02-20

[2]

基片抛光设备和基片抛光方法 [P].

户川哲二 ;

深谷孝一 ;

多田光男 ;

高桥太郎 ;

须藤康成 .

中国专利 :CN1809444A ,2006-07-26

[3]

压板组件、抛光设备和抛光方法 [P].

李荣出 .

中国专利 :CN101036975A ,2007-09-19

[4]

抛光设备和抛光方法 [P].

张锡强 ;

汤金慧 ;

范剑峰 ;

刘军 ;

车云碧 .

中国专利 :CN112476204B ,2025-05-30

[5]

抛光设备和抛光方法 [P].

张锡强 ;

汤金慧 ;

范剑峰 ;

刘军 ;

车云碧 .

中国专利 :CN112476204A ,2021-03-12

[6]

抛光设备和抛光方法 [P].

白宗权 .

中国专利 :CN114290231A ,2022-04-08

[7]

抛光设备、抛光方法和抛光装置 [P].

彭云龙 .

中国专利 :CN119328655A ,2025-01-21

[8]

抛光方法和设备 [P].

森山茂夫 ;

山口克彦 ;

本間喜夫 ;

松原直 ;

石田吉弘 ;

河合亮成 .

中国专利 :CN1303654C ,2004-07-28

[9]

抛光设备和方法 [P].

安田穗积 ;

福岛诚 ;

户川哲二 .

中国专利 :CN101444897A ,2009-06-03

[10]

抛光方法和设备 [P].

森山茂夫 ;

山口克彦 ;

本间喜夫 ;

松原直 ;

石田吉弘 ;

河合亮成 .

中国专利 :CN1197542A ,1998-10-28

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