抛光方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03149104.9

申请日：

1995-09-13

公开(公告)号：

CN1303654C

公开(公告)日：

2004-07-28

发明(设计)人：

森山茂夫山口克彦本間喜夫松原直石田吉弘河合亮成

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B24B100

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

朱德强

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-07-28	公开	公开
2015-10-28	专利权的终止	专利权有效期届满号牌文件类型代码:1611 号牌文件序号:101631601269 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL031491049 申请日:19950913 授权公告日:20070307 终止日期:无
2004-09-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-03-07	授权	授权
2014-11-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101707363527 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL031491049 变更事项:专利权人变更前权利人:瑞萨电子株式会社变更后权利人:德塞拉先进技术公司变更事项:地址变更前权利人:日本神奈川变更后权利人:美国加利福尼亚登记生效日:20141023
2012-12-12	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101482943036 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL031491049 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社日立制作所变更后权利人:瑞萨电子株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本神奈川登记生效日:20121108

共 50 条

[1]

抛光方法和设备 [P].

森山茂夫 ;

山口克彦 ;

本间喜夫 ;

松原直 ;

石田吉弘 ;

河合亮成 .

中国专利 :CN1197542A ,1998-10-28

[2]

抛光方法和设备 [P].

森山茂夫 ;

山口克彦 ;

本间喜夫 ;

松原直 ;

石田吉弘 ;

河合亮成 .

中国专利 :CN1411038A ,2003-04-16

[3]

抛光设备和抛光方法 [P].

小林洋一 ;

广尾康正 ;

大桥刚 .

中国专利 :CN1972780B ,2007-05-30

[4]

基片抛光设备和基片抛光方法 [P].

户川哲二 ;

深谷孝一 ;

多田光男 ;

高桥太郎 ;

须藤康成 .

中国专利 :CN1809444A ,2006-07-26

[5]

抛光设备和抛光方法 [P].

福田明 ;

望月宣宏 ;

广川一人 .

中国专利 :CN101128285A ,2008-02-20

[6]

抛光设备和抛光方法 [P].

张锡强 ;

汤金慧 ;

范剑峰 ;

刘军 ;

车云碧 .

中国专利 :CN112476204B ,2025-05-30

[7]

抛光设备和抛光方法 [P].

张锡强 ;

汤金慧 ;

范剑峰 ;

刘军 ;

车云碧 .

中国专利 :CN112476204A ,2021-03-12

[8]

抛光设备和抛光方法 [P].

白宗权 .

中国专利 :CN114290231A ,2022-04-08

[9]

抛光设备、抛光方法和抛光装置 [P].

彭云龙 .

中国专利 :CN119328655A ,2025-01-21

[10]

双面抛光设备和抛光方法 [P].

和田昌树 ;

赤盐典彦 ;

依田辽介 .

中国专利 :CN106064339B ,2016-11-02

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