基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610090970.4

申请日：

2016-02-18

公开(公告)号：

CN105914165B

公开(公告)日：

2016-08-31

发明(设计)人：

栗原弘邦水鸟量介后和昭典高木智哉本间真

申请人：

申请人地址：

日本茨城县

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L23488 H01L2160

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

金春实

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20160218 授权公告日:20190823 终止日期:20220218
2017-01-25	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101745594125 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2016100909704 登记生效日:20170104 变更事项:申请人变更前权利人:株式会社日立制作所变更后权利人:艾美柯技术株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本茨城县
2016-08-31	公开	公开
2016-09-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101680693511 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2016100909704 申请日:20160218

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

井上正史 ;

田中孝佳 ;

岩田智巳 ;

谷口宽树 ;

新庄淳一 ;

高桥弘明 ;

樋口鲇美 ;

大迹明 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257891B ,2018-07-06

[2]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16

[3]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

东广大 ;

绪方诚 .

日本专利 :CN111477564B ,2025-07-15

[4]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02

[5]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

金田正利 ;

大石雄三 ;

吉田圭佑 .

中国专利 :CN105206526B ,2015-12-30

[6]

基板处理装置、基板处理方法、以及基板处理系统 [P].

越田隆 .

中国专利 :CN105431923A ,2016-03-23

[7]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

犹原英司 ;

冲田有史 ;

角间央章 ;

增井达哉 .

中国专利 :CN112640055A ,2021-04-09

[8]

基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

高木慎介 ;

只友浩贵 ;

酒田洋司 ;

鬼塚智也 ;

柴田直树 .

日本专利 :CN118818893A ,2024-10-22

[9]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

金烔五 .

韩国专利 :CN121075987A ,2025-12-05

[10]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

山下阳平 ;

田之上隼斗 ;

沟本康隆 .

日本专利 :CN120637207A ,2025-09-12

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