基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711406516.6

申请日：

2017-12-22

公开(公告)号：

CN108257891B

公开(公告)日：

2018-07-06

发明(设计)人：

井上正史田中孝佳岩田智巳谷口宽树新庄淳一高桥弘明樋口鲇美大迹明中野佑太

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2168 H01L2102

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

向勇

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-26	授权	授权
2018-07-06	公开	公开
2018-07-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20171222

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

中国专利 :CN110137107A ,2019-08-16

[2]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

栗原弘邦 ;

水鸟量介 ;

后和昭典 ;

高木智哉 ;

本间真 .

中国专利 :CN105914165B ,2016-08-31

[3]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

林圣人 ;

野口耕平 ;

东广大 ;

绪方诚 .

日本专利 :CN111477564B ,2025-07-15

[4]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

村元僚 ;

高桥光和 .

日本专利 :CN110137107B ,2024-04-02

[5]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

金田正利 ;

大石雄三 ;

吉田圭佑 .

中国专利 :CN105206526B ,2015-12-30

[6]

基板处理装置、基板处理方法、以及基板处理系统 [P].

越田隆 .

中国专利 :CN105431923A ,2016-03-23

[7]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

犹原英司 ;

冲田有史 ;

角间央章 ;

增井达哉 .

中国专利 :CN112640055A ,2021-04-09

[8]

基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

高木慎介 ;

只友浩贵 ;

酒田洋司 ;

鬼塚智也 ;

柴田直树 .

日本专利 :CN118818893A ,2024-10-22

[9]

基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 [P].

金烔五 .

韩国专利 :CN121075987A ,2025-12-05

[10]

基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统 [P].

山下阳平 ;

田之上隼斗 ;

沟本康隆 .

日本专利 :CN120637207A ,2025-09-12

← 1 2 3 4 5 →