反应腔室及薄膜沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811257769.6

申请日：

2018-10-26

公开(公告)号：

CN111101097A

公开(公告)日：

2020-05-05

发明(设计)人：

贾强杨玉杰

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1418

IPC分类号：

C23C1450 C23C1454

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;张天舒

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-05	公开	公开
2020-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/18 申请日:20181026
2023-01-20	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/18 申请公布日:20200505

共 50 条

[1]

反应腔室及薄膜沉积设备 [P].

苏显月 ;

拉海忠 ;

闫晓晖 .

中国专利 :CN118166330A ,2024-06-11

[2]

反应腔室以及薄膜沉积设备 [P].

叶华 ;

刘菲菲 .

中国专利 :CN103510050A ,2014-01-15

[3]

薄膜沉积反应腔及薄膜沉积设备 [P].

邵大立 ;

逄效伟 ;

李宇晗 ;

周翔 ;

齐彪 ;

史皓然 ;

刘国庆 ;

刘子婵 ;

李浩源 ;

段琦琪 ;

陆淋康 .

中国专利 :CN220746077U ,2024-04-09

[4]

喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备 [P].

黄明策 ;

野沢俊久 .

中国专利 :CN118726947A ,2024-10-01

[5]

喷淋装置、反应腔室及薄膜沉积设备 [P].

黄明策 ;

野沢俊久 .

中国专利 :CN222886757U ,2025-05-20

[6]

磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 [P].

杨玉杰 ;

张同文 ;

夏威 ;

丁培军 ;

王厚工 .

中国专利 :CN108172396A ,2018-06-15

[7]

磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 [P].

杨玉杰 ;

张同文 ;

马新艳 ;

郑金果 ;

王宽冒 ;

郭浩 ;

贾强 .

中国专利 :CN207331049U ,2018-05-08

[8]

磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 [P].

杨玉杰 ;

张同文 ;

夏威 ;

丁培军 ;

王厚工 .

中国专利 :CN108010718B ,2018-05-08

[9]

磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 [P].

杨玉杰 ;

张同文 ;

马新艳 ;

郑金果 ;

王宽冒 ;

郭浩 ;

贾强 .

中国专利 :CN107313019A ,2017-11-03

[10]

反应腔及薄膜沉积设备 [P].

高菁 ;

尹晶 ;

关帅 ;

齐永恒 ;

吴凤丽 .

中国专利 :CN119553248A ,2025-03-04

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