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用于硅片清洗机的温度监控设备及硅片清洗机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922120114.0
申请日：
2019-11-29
公开(公告)号：
CN211044036U
公开(公告)日：
2020-07-17
发明(设计)人：
张强
申请人：
申请人地址：
710000 陕西省西安市长安区航天中路388号
IPC主分类号：
G05D2324
IPC分类号：
代理机构：
北京工信联合知识产权代理有限公司 11266
代理人：
白晓晰
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-17 | 授权 | 授权 |