半导体结构及其形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201711205964.X
申请日
2017-11-27
公开(公告)号
CN109841524B
公开(公告)日
2019-06-04
发明(设计)人
李勇
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
徐文欣;吴敏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104952730B ,2015-09-30
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
吴永玉 ;
高大为 ;
苏婕 .
中国专利 :CN120035122A ,2025-05-23
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王楠 .
中国专利 :CN110718582A ,2020-01-21
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
吴咏捷 ;
何彦忠 ;
魏惠娴 ;
游嘉榕 ;
许秉诚 ;
杨丰诚 ;
林仲德 .
中国专利 :CN114883268A ,2022-08-09
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵君红 .
中国专利 :CN114141873A ,2022-03-04
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN111293118A ,2020-06-16
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
张城龙 .
中国专利 :CN108122824A ,2018-06-05
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
刘继全 ;
龚春蕾 .
中国专利 :CN107039275B ,2017-08-11
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN113394288A ,2021-09-14
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
朱一明 ;
王晓光 .
中国专利 :CN114695353A ,2022-07-01