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半导体结构、晶体管结构及半导体处理设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201820784453.1
申请日
:
2018-05-24
公开(公告)号
:
CN208521933U
公开(公告)日
:
2019-02-19
发明(设计)人
:
刘铁
申请人
:
申请人地址
:
230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
IPC主分类号
:
H01L27108
IPC分类号
:
H01L2906
H01L21265
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
佟婷婷
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-02-19
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体结构、晶体管结构的制备方法及半导体处理设备
[P].
刘铁
论文数:
0
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0
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刘铁
.
中国专利
:CN110534516A
,2019-12-03
[2]
晶体管、半导体装置及半导体结构
[P].
郑兆钦
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郑兆钦
;
黄瑞乾
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黄瑞乾
;
洪以则
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洪以则
;
王世豪
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王世豪
;
汪涵
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汪涵
;
廖思雅
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廖思雅
.
中国专利
:CN217933803U
,2022-11-29
[3]
半导体结构及晶体管器件
[P].
罗启仁
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罗启仁
;
童宇诚
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童宇诚
.
中国专利
:CN217444377U
,2022-09-16
[4]
浮体晶体管结构、半导体结构及形成半导体结构的方法
[P].
倩·D·唐
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倩·D·唐
;
文卡特桑·阿南塔
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文卡特桑·阿南塔
.
中国专利
:CN101410986A
,2009-04-15
[5]
晶体管结构、半导体结构及制作晶体管结构的方法
[P].
蔡武卫
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蔡武卫
;
陈海清
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陈海清
.
中国专利
:CN115312583A
,2022-11-08
[6]
半导体结构、半导体结构的制造方法及NMOS晶体管
[P].
冯亚
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
冯亚
;
郭廷晃
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
郭廷晃
.
中国专利
:CN118969819A
,2024-11-15
[7]
半导体结构、半导体结构的制造方法及NMOS晶体管
[P].
冯亚
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
冯亚
;
郭廷晃
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
郭廷晃
.
中国专利
:CN118969819B
,2025-01-10
[8]
半导体结构、晶体管器件、及形成半导体结构的方法
[P].
苏柏智
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苏柏智
;
柳瑞兴
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柳瑞兴
;
王培伦
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王培伦
;
李佳叡
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李佳叡
;
周君冠
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周君冠
.
中国专利
:CN113629138A
,2021-11-09
[9]
半导体晶体管外延结构、其制备方法及半导体晶体管
[P].
李东昇
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李东昇
;
贾利芳
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贾利芳
;
肖金平
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肖金平
;
逯永建
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逯永建
.
中国专利
:CN113284947A
,2021-08-20
[10]
半导体结构、包括半导体结构的晶体管和制造晶体管的方法
[P].
朴永焕
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朴永焕
;
金钟燮
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金钟燮
.
中国专利
:CN112909073A
,2021-06-04
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