用于化学机械抛光垫的改进组合物以及由其制备的CMP垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711224404.9

申请日：

2017-11-29

公开(公告)号：

CN108115554B

公开(公告)日：

2018-06-05

发明(设计)人：

B·E·巴尔顿 M·E·米尔斯

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3724

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;胡嘉倩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/24 申请日:20171129
2020-11-17	授权	授权
2018-06-05	公开	公开

共 50 条

[1]

高移除率化学机械抛光垫和制造方法 [P].

T·P·维拉姆斯塔德 ;

钱百年 ;

谢瑞 ;

尾形谦次郎 ;

G·C·雅各布 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN107520742A ,2017-12-29

[2]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[3]

用于化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫 [P].

B·E·巴尔顿 ;

T·布鲁加罗拉斯布鲁福 .

中国专利 :CN114800255A ,2022-07-29

[4]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[5]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[6]

用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫 [P].

J·任 ;

K·泰蒂 ;

B·E·巴尔顿 .

中国专利 :CN114800256A ,2022-07-29

[7]

用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫 [P].

J·任 ;

K·泰蒂 ;

B·E·巴尔顿 .

美国专利 :CN114800256B ,2024-04-30

[8]

化学机械抛光垫的抛光层 [P].

朱顺全 ;

罗乙杰 ;

刘敏 .

中国专利 :CN107457716B ,2017-12-12

[9]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

黎文部 ;

刘敏 .

中国专利 :CN108789135B ,2018-11-13

[10]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

B·E·巴尔顿 ;

T·布鲁加罗拉斯布鲁福 .

中国专利 :CN114770368A ,2022-07-22

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