化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810511239.3

申请日：

2018-05-25

公开(公告)号：

CN108789135B

公开(公告)日：

2018-11-13

发明(设计)人：

朱顺全黎文部刘敏

申请人：

申请人地址：

430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号

IPC主分类号：

B24B3724

IPC分类号：

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代理人：

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-22	授权	授权
2018-11-13	公开	公开
2018-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/24 申请日:20180525

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[2]

化学机械抛光垫的抛光层 [P].

朱顺全 ;

罗乙杰 ;

刘敏 .

中国专利 :CN107457716B ,2017-12-12

[3]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[4]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[5]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

[6]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080259A ,2025-06-03

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[8]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

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