化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411751437.9

申请日：

2024-12-02

公开(公告)号：

CN120080259A

公开(公告)日：

2025-06-03

发明(设计)人：

P·J·斯科特 J·R·麦考密克 K·劳弗林 J·C·霍威

申请人：

杜邦电子材料控股股份有限公司 DDP特种电子材料美国第8有限公司杜邦特种产品美国有限公司

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B37/24

IPC分类号：

B24B37/04

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

乐洪咏;陈哲锋

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-03	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

[2]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[3]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[4]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

黎文部 ;

刘敏 .

中国专利 :CN108789135B ,2018-11-13

[5]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[8]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

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