化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710109253.2

申请日：

2007-05-25

公开(公告)号：

CN100540225C

公开(公告)日：

2007-11-28

发明(设计)人：

M·J·库尔普

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24D300

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

沙永生

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-11-28	公开	公开
2009-09-16	授权	授权
2008-01-23	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[2]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[3]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[4]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[5]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[6]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[7]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[8]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

[9]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080259A ,2025-06-03

[10]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

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