化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410064056.X

申请日：

2004-07-16

公开(公告)号：

CN100352605C

公开(公告)日：

2005-03-09

发明(设计)人：

志保浩司保坂幸生长谷川亨川桥信夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B4912

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

郭煜;孟凡宏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-05-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-12-05	授权	授权
2021-07-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/04 申请日:20040716 授权公告日:20071205 终止日期:20200716
2005-03-09	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[2]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

梅黎黎 ;

李云峰 .

中国专利 :CN104149023A ,2014-11-19

[3]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

F·叶 ;

T-C·王 ;

S-H·曾 ;

K·W-H·佟 ;

M·W·德格鲁特 .

中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 .

中国专利 :CN105014528A ,2015-11-04

[8]

化学机械抛光垫 [P].

宫内裕之 ;

志保浩司 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100437924C ,2005-05-11

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[10]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537149C ,2008-06-04

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