化学机械抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410341023.9

申请日：

2014-07-17

公开(公告)号：

CN104149023A

公开(公告)日：

2014-11-19

发明(设计)人：

朱顺全梅黎黎李云峰

申请人：

申请人地址：

430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号

IPC主分类号：

B24B3724

IPC分类号：

B24B3726

代理机构：

武汉开元知识产权代理有限公司 42104

代理人：

涂洁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-19	公开	公开
2014-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101591907345 IPC(主分类):B24B 37/24 专利申请号:2014103410239 申请日:20140717
2017-01-18	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101745245775 IPC(主分类):B24B 37/24 专利申请号:2014103410239 变更事项:申请人变更前:湖北鼎龙化学股份有限公司变更后:湖北鼎龙控股股份有限公司变更事项:地址变更前:430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号变更后:430057 湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号
2017-09-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101758373937 IPC(主分类):B24B 37/24 专利申请号:2014103410239 申请公布日:20141119

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[2]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537149C ,2008-06-04

[3]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537148C ,2008-06-04

[4]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

邹陆军 ;

常建光 .

中国专利 :CN100482419C ,2008-01-16

[5]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[6]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[8]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[10]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

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