抛光垫以及化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610118833.3

申请日：

2006-11-28

公开(公告)号：

CN100537148C

公开(公告)日：

2008-06-04

发明(设计)人：

蒋莉臧伟季华小池正博

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

B24D1700

IPC分类号：

B24B2900 H01L21304

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-06-04	公开	公开
2008-07-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2019-11-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24D 17/00 申请日:20061128 授权公告日:20090909 终止日期:20181128
2011-12-21	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101241323621 IPC(主分类):B24D 17/00 专利号:ZL2006101188333 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111111
2009-09-09	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537149C ,2008-06-04

[2]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

邹陆军 ;

常建光 .

中国专利 :CN100482419C ,2008-01-16

[3]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[4]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

梅黎黎 ;

李云峰 .

中国专利 :CN104149023A ,2014-11-19

[5]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[6]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[7]

化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法 [P].

冈本隆浩 ;

宫内裕之 ;

河原弘二 ;

志保浩司 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN1654169A ,2005-08-17

[8]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[9]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

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