化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510054230.7

申请日：

2005-02-05

公开(公告)号：

CN1654169A

公开(公告)日：

2005-08-17

发明(设计)人：

冈本隆浩宫内裕之河原弘二志保浩司长谷川亨川桥信夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24D322

IPC分类号：

C08J500 B24B3700 H01L21304

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

郭煜;庞立志

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-08-13	授权	授权
2021-01-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24D 3/22 申请日:20050205 授权公告日:20080813 终止日期:20200205
2005-10-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-08-17	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[2]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[3]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537149C ,2008-06-04

[6]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

臧伟 ;

季华 ;

小池正博 .

中国专利 :CN100537148C ,2008-06-04

[7]

抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

蒋莉 ;

邹陆军 ;

常建光 .

中国专利 :CN100482419C ,2008-01-16

[8]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

[9]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080259A ,2025-06-03

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

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