化学机械抛光垫及化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510073749.X

申请日：

2005-05-20

公开(公告)号：

CN1864929A

公开(公告)日：

2006-11-22

发明(设计)人：

志保浩司田野裕之保坂幸生西村秀树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

郭煜;庞立志

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-11-22	公开	公开
2009-10-21	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-01-17	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[2]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[3]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[4]

化学机械抛光垫 [P].

张海龙 ;

张海民 ;

王用堂 .

中国专利 :CN204277742U ,2015-04-22

[5]

化学机械抛光垫 [P].

朱顺全 ;

梅黎黎 ;

李云峰 .

中国专利 :CN104149023A ,2014-11-19

[6]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[7]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[8]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[9]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[10]

化学机械抛光垫 [P].

P·J·斯科特 ;

J·R·麦考密克 ;

K·劳弗林 ;

J·C·霍威 .

美国专利 :CN120080258A ,2025-06-03

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