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一种LED发光均匀度调整装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121352369.0
申请日
:
2021-06-18
公开(公告)号
:
CN215215790U
公开(公告)日
:
2021-12-17
发明(设计)人
:
王新花
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市福田区园岭街道八卦岭工业区525栋401
IPC主分类号
:
F21K966
IPC分类号
:
F21K968
F21K964
F21K969
F21V1712
F21Y11510
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-17
授权
授权
共 50 条
[1]
一种LED发光均匀度调整装置
[P].
李建红
论文数:
0
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0
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0
李建红
.
中国专利
:CN210219642U
,2020-03-31
[2]
一种LED发光均匀度调整装置
[P].
李建红
论文数:
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0
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李建红
.
中国专利
:CN110454752A
,2019-11-15
[3]
一种LED发光均匀度调整装置
[P].
仇国瑞
论文数:
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仇国瑞
.
中国专利
:CN216715918U
,2022-06-10
[4]
磁场均匀度调整方法以及磁场均匀度调整装置
[P].
榊原健二
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榊原健二
;
藤川拓也
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藤川拓也
;
阿部充志
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阿部充志
;
花田光
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花田光
.
中国专利
:CN107205689B
,2017-09-26
[5]
投影装置色彩均匀度调整方法及色彩均匀度调整装置
[P].
吴志鸿
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机构:
苏州佳世达光电有限公司
苏州佳世达光电有限公司
吴志鸿
;
周秉忠
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机构:
苏州佳世达光电有限公司
苏州佳世达光电有限公司
周秉忠
.
中国专利
:CN118842885A
,2024-10-25
[6]
一种LED发光角度调整装置
[P].
吴和杰
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吴和杰
;
许诗霞
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许诗霞
.
中国专利
:CN207796763U
,2018-08-31
[7]
静磁场均匀度调整方法、静磁场均匀度调整装置以及计算机
[P].
藤川拓也
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藤川拓也
;
阿部充志
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阿部充志
;
榊原健二
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榊原健二
;
花田光
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花田光
.
中国专利
:CN107205687B
,2017-09-26
[8]
发光均匀度校正设备
[P].
张鸿明
论文数:
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张鸿明
.
中国专利
:CN205809534U
,2016-12-14
[9]
高效改善均匀度的搅拌系统叶片调整装置
[P].
邓道路
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邓道路
;
王成红
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王成红
;
何丰成
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何丰成
.
中国专利
:CN217887614U
,2022-11-25
[10]
剪板机上下刀片间隙均匀度调整装置
[P].
陆海建
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陆海建
.
中国专利
:CN201833057U
,2011-05-18
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