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投射用光学系统及投射型显示装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201821320532.3
申请日：
2018-08-15
公开(公告)号：
CN208834076U
公开(公告)日：
2019-05-07
发明(设计)人：
天野贤
申请人：
申请人地址：
日本国东京都
IPC主分类号：
G03B2100
IPC分类号：
G03B2114
G03B2128
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
樊建中
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-05-07 | 授权 | 授权 |