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投射用光学系统以及投射型显示装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201620136332.7
申请日：
2016-02-23
公开(公告)号：
CN205485029U
公开(公告)日：
2016-08-17
发明(设计)人：
天野贤
申请人：
申请人地址：
日本国东京都
IPC主分类号：
G02B1318
IPC分类号：
G02B1306
G02B1300
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
刘文海
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-08-17 | 授权 | 授权 |