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光刻胶沉积设备以及使用该设备形成光刻胶薄膜的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN02150649.3
申请日：
2002-11-12
公开(公告)号：
CN1501442A
公开(公告)日：
2004-06-02
发明(设计)人：
朴韓守
權寧鍾
申请人：
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
H01L21027
IPC分类号：
G03F716
代理机构：
上海专利商标事务所
代理人：
张政权
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2004-06-02 | 公开 | 公开 |
| 2006-11-15 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |
| 2004-08-11 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |