等离子体处理系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200790000069.8

申请日：

2007-06-29

公开(公告)号：

CN201352541Y

公开(公告)日：

2009-11-25

发明(设计)人：

E·曼 C·弗里奇

申请人：

申请人地址：

德国弗莱堡

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L21683

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

曾立

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-25	专利权的终止	专利权有效期届满号牌文件类型代码:1611 号牌文件序号:101736764140 IPC(主分类):H01J 37/32 专利号:ZL2007900000698 申请日:20070629 授权公告日:20091125 终止日期:无
2009-11-25	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理系统 [P].

王劼 ;

李智 ;

黄思涵 ;

张永红 .

中国专利 :CN120388878A ,2025-07-29

[2]

低温等离子体废气处理系统 [P].

曹佳平 ;

罗福然 ;

蒋洪卫 ;

沙亮 ;

朱昊 .

中国专利 :CN203447963U ,2014-02-26

[3]

等离子体处理系统 [P].

倪图强 ;

温利·科利森 .

中国专利 :CN100380606C ,2006-01-25

[4]

等离子体处理系统 [P].

小林悟 ;

K·H·弗劳德 ;

塙广二 ;

S·朴 ;

D·卢博米尔斯基 ;

J·A·肯尼 .

中国专利 :CN108109897A ,2018-06-01

[5]

等离子体处理方法、等离子体处理装置以及等离子体处理系统 [P].

米泽隆宏 ;

熊仓翔 .

中国专利 :CN115513044A ,2022-12-23

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理系统 [P].

向山广记 ;

户村幕树 ;

木原嘉英 ;

高桥笃史 ;

大类贵俊 .

日本专利 :CN116805579B ,2025-03-14

[7]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

茂山和基 ;

永关一也 .

中国专利 :CN114050100A ,2022-02-15

[8]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

茂山和基 ;

永关一也 .

中国专利 :CN110137068B ,2019-08-16

[9]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

弗兰克·梅 ;

伯恩哈德·科德 ;

西蒙·赫布纳 ;

彼得·沃尔法特 .

中国专利 :CN114503239A ,2022-05-13

[10]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

曾根一朗 ;

长﨑秀昭 .

中国专利 :CN114823264A ,2022-07-29

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