等离子体处理系统和等离子体处理方法

被引：0

申请号：

CN202210021589.8

申请日：

2022-01-10

公开(公告)号：

CN114823264A

公开(公告)日：

2022-07-29

发明(设计)人：

曾根一朗长﨑秀昭

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-29	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理系统和等离子体处理装置 [P].

瀬野晃汰 ;

有吉文彬 .

日本专利 :CN118140297A ,2024-06-04

[2]

等离子体处理方法和等离子体处理系统 [P].

向山广记 ;

户村幕树 ;

木原嘉英 ;

高桥笃史 ;

大类贵俊 .

日本专利 :CN116805579B ,2025-03-14

[3]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

茂山和基 ;

永关一也 .

中国专利 :CN114050100A ,2022-02-15

[4]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

茂山和基 ;

永关一也 .

中国专利 :CN110137068B ,2019-08-16

[5]

等离子体处理系统和等离子体处理方法 [P].

弗兰克·梅 ;

伯恩哈德·科德 ;

西蒙·赫布纳 ;

彼得·沃尔法特 .

中国专利 :CN114503239A ,2022-05-13

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理系统 [P].

吉越大祐 ;

清水祐介 ;

田原慈 .

日本专利 :CN119173985A ,2024-12-20

[7]

等离子体处理方法和等离子体处理系统 [P].

田边明良 ;

成重和树 ;

平井克典 ;

玉川裕介 .

日本专利 :CN119731770A ,2025-03-28

[8]

等离子体处理方法、等离子体处理装置以及等离子体处理系统 [P].

米泽隆宏 ;

熊仓翔 .

中国专利 :CN115513044A ,2022-12-23

[9]

等离子体处理系统以及等离子体处理方法 [P].

玉虫元 .

日本专利 :CN117643180A ,2024-03-01

[10]

等离子体处理系统和等离子体点火辅助方法 [P].

北邨友志 .

中国专利 :CN112447479A ,2021-03-05

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