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等离子体处理系统和等离子体点火辅助方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010849988.4
申请日
:
2020-08-21
公开(公告)号
:
CN112447479A
公开(公告)日
:
2021-03-05
发明(设计)人
:
北邨友志
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200821
2021-03-05
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理系统和等离子体点火辅助方法
[P].
北邨友志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
北邨友志
.
日本专利
:CN112447479B
,2025-07-08
[2]
等离子体处理方法和等离子体处理系统
[P].
向山广记
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山广记
;
户村幕树
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
户村幕树
;
木原嘉英
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
木原嘉英
;
高桥笃史
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高桥笃史
;
大类贵俊
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大类贵俊
.
日本专利
:CN116805579B
,2025-03-14
[3]
等离子体处理方法和等离子体处理系统
[P].
吉越大祐
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吉越大祐
;
清水祐介
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
清水祐介
;
田原慈
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田原慈
.
日本专利
:CN119173985A
,2024-12-20
[4]
等离子体处理方法、等离子体处理装置以及等离子体处理系统
[P].
米泽隆宏
论文数:
0
引用数:
0
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0
米泽隆宏
;
熊仓翔
论文数:
0
引用数:
0
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0
熊仓翔
.
中国专利
:CN115513044A
,2022-12-23
[5]
等离子体处理系统和等离子体处理装置
[P].
瀬野晃汰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
瀬野晃汰
;
有吉文彬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
有吉文彬
.
日本专利
:CN118140297A
,2024-06-04
[6]
等离子体处理系统以及等离子体处理方法
[P].
玉虫元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
玉虫元
.
日本专利
:CN117643180A
,2024-03-01
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
池田太郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
池田太郎
.
中国专利
:CN1554114A
,2004-12-08
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
论文数:
0
引用数:
0
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0
金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[9]
等离子体处理系统和等离子体处理方法
[P].
曾根一朗
论文数:
0
引用数:
0
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0
曾根一朗
;
长﨑秀昭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长﨑秀昭
.
中国专利
:CN114823264A
,2022-07-29
[10]
等离子体处理系统和等离子体处理方法
[P].
茂山和基
论文数:
0
引用数:
0
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茂山和基
;
永关一也
论文数:
0
引用数:
0
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0
永关一也
.
中国专利
:CN114050100A
,2022-02-15
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