半导体结构及其形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201310542825.1
申请日
2013-11-05
公开(公告)号
CN104617093B
公开(公告)日
2015-05-13
发明(设计)人
三重野文健
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2704
IPC分类号
H01L2177
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
骆苏华
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655253B ,2016-06-08
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655398A ,2016-06-08
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王楠 .
中国专利 :CN114864689A ,2022-08-05
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
丁亚 ;
杨林宏 ;
张艳红 ;
杜义琛 ;
陈秋颖 .
中国专利 :CN117672973A ,2024-03-08
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
黄兴凯 .
中国专利 :CN118632531A ,2024-09-10
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885B ,2024-03-22
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 ;
魏兰英 .
中国专利 :CN113496885A ,2021-10-12
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
刘金华 .
中国专利 :CN104900501A ,2015-09-09
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 ;
周永昌 .
中国专利 :CN117352390A ,2024-01-05
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN107170704A ,2017-09-15