一种制备六方氮化硼薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410062801.0
申请日
2014-02-24
公开(公告)号
CN103774113B
公开(公告)日
2014-05-07
发明(设计)人
卢光远 吴天如 宋阳曦 王浩敏 谢晓明 江绵恒
申请人
申请人地址
200050 上海市长宁区长宁路865号
IPC主分类号
C23C1634
IPC分类号
代理机构
上海光华专利事务所 31219
代理人
李仪萍
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
多层六方氮化硼薄膜的制备方法 [P]. 
时志远 ;
吴天如 ;
卢光远 ;
王秀君 ;
张超 ;
王浩敏 ;
谢晓明 .
中国专利 :CN110921637B ,2020-03-27
[2]
一种六方氮化硼薄膜的制备方法及六方氮化硼薄膜 [P]. 
王浩林 .
中国专利 :CN113106417A ,2021-07-13
[3]
一种六方氮化硼薄膜的转移方法 [P]. 
赵士超 ;
金圣忠 ;
张琪 ;
吴斌 ;
吕燕飞 .
中国专利 :CN105908152B ,2016-08-31
[4]
一种六方氮化硼薄膜生长方法及六方氮化硼薄膜 [P]. 
孙晓娟 ;
隋佳恩 ;
贾玉萍 ;
张山丽 ;
蒋科 ;
石芝铭 .
中国专利 :CN112086343A ,2020-12-15
[5]
六方氮化硼薄膜及其制备方法 [P]. 
赵昱 ;
王浩 ;
杨晓霞 ;
王文龙 ;
白雪冬 .
中国专利 :CN111575674A ,2020-08-25
[6]
一种制备晶片级均匀六方氮化硼薄膜的方法 [P]. 
武斌 ;
姚文乾 ;
刘云圻 .
中国专利 :CN111826712A ,2020-10-27
[7]
一种晶体六方氮化硼薄膜的制备方法 [P]. 
唐武 ;
张子昌 .
中国专利 :CN108425095B ,2018-08-21
[8]
一种在常压下化学气相沉积制备六方氮化硼薄膜的方法 [P]. 
王洁琼 ;
高广存 .
中国专利 :CN115613130A ,2023-01-17
[9]
一种在常压下化学气相沉积制备六方氮化硼薄膜的方法 [P]. 
王洁琼 ;
高广存 .
中国专利 :CN115613130B ,2024-06-04
[10]
一种六方氮化硼异质结的制备方法及六方氮化硼异质结 [P]. 
王浩林 ;
谢涌 .
中国专利 :CN113224141A ,2021-08-06