基于GOI的应变SiGe沟道槽型栅CMOS集成器件的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510540862.8
申请日
2015-08-28
公开(公告)号
CN105140185A
公开(公告)日
2015-12-09
发明(设计)人
刘翔宇 胡辉勇 张鹤鸣 宋建军 舒斌 宣荣喜
申请人
申请人地址
710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L27092 H01L29423 H01L2984 H01L29167
代理机构
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350
代理人
汤东凤
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
应变SiGe沟道的倒梯形栅CMOS集成器件及制备方法 [P]. 
刘翔宇 ;
王斌 ;
胡辉勇 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
舒斌 ;
宣荣喜 .
中国专利 :CN105244319A ,2016-01-13
[2]
应变Ge槽型栅CMOS集成器件制备方法及其CMOS集成器件 [P]. 
刘翔宇 ;
胡辉勇 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
舒斌 ;
宣荣喜 .
中国专利 :CN105118809A ,2015-12-02
[3]
异质沟道槽型栅CMOS集成器件及其制备方法 [P]. 
刘翔宇 ;
胡辉勇 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
舒斌 ;
宣荣喜 .
中国专利 :CN105206584A ,2015-12-30
[4]
基于GOI的增强型NMOS形成的应变SiGe CMOS集成器件及制备方法 [P]. 
刘翔宇 ;
胡辉勇 ;
王斌 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
宣荣喜 ;
舒斌 .
中国专利 :CN104992931A ,2015-10-21
[5]
基于SOI的应变Si沟道倒梯形栅CMOS集成器件及制备方法 [P]. 
刘翔宇 ;
王斌 ;
胡辉勇 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
舒斌 ;
宣荣喜 .
中国专利 :CN105206583A ,2015-12-30
[6]
基于SOI的应变Ge沟道倒梯形栅CMOS集成器件及制备方法 [P]. 
刘翔宇 ;
苗渊浩 ;
胡辉勇 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
舒斌 ;
宣荣喜 .
中国专利 :CN105244320A ,2016-01-13
[7]
应变Ge CMOS集成器件的制备方法及其CMOS集成器件 [P]. 
刘翔宇 ;
胡辉勇 ;
王斌 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
宣荣喜 ;
舒斌 .
中国专利 :CN104992930A ,2015-10-21
[8]
SOI BJT应变SiGe回型沟道BiCMOS集成器件及制备方法 [P]. 
宋建军 ;
胡辉勇 ;
舒斌 ;
张鹤鸣 ;
宣荣喜 ;
李妤晨 ;
吕懿 ;
郝跃 .
中国专利 :CN102723339A ,2012-10-10
[9]
一种SOI应变SiGe CMOS集成器件及制备方法 [P]. 
胡辉勇 ;
宋建军 ;
王斌 ;
张鹤鸣 ;
宣荣喜 ;
王海栋 ;
吕懿 ;
郝跃 .
中国专利 :CN102738179B ,2012-10-17
[10]
异沟道CMOS集成器件及其制备方法 [P]. 
胡辉勇 ;
刘翔宇 ;
王斌 ;
张鹤鸣 ;
宋建军 ;
宣荣喜 ;
舒斌 .
中国专利 :CN104966716B ,2015-10-07