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沟槽式化学机械抛光保持环及其制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010314529.6
申请日：
2020-04-20
公开(公告)号：
CN111496670A
公开(公告)日：
2020-08-07
发明(设计)人：
相红旗 姚力军 潘杰
申请人：
申请人地址：
315400 浙江省宁波市余姚市三七市镇云山中路28号
IPC主分类号：
B24B3732
IPC分类号：
B29C4514
代理机构：
成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230
代理人：
陈仕超
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-09-01 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/32 申请日:20200420
2020-08-07 公开 公开
共 50 条
[1]
化学机械抛光保持环 [P]. 
相红旗 ;
姚力军 ;
潘杰 .
中国专利 :CN212170043U ,2020-12-18
[2]
化学机械抛光保持环及其制造方法 [P]. 
相红旗 ;
姚力军 ;
潘杰 ;
施建国 .
中国专利 :CN111496669A ,2020-08-07
[3]
沟槽式化学机械抛光抛光垫 [P]. 
蔡庆铭 ;
F.孙 ;
刘圣焕 ;
徐嘉成 ;
A.纳曼 ;
邱浩光 ;
D.卡纳 .
中国专利 :CN102498549A ,2012-06-13
[4]
用于化学机械抛光的保持环 [P]. 
安德鲁·J·纳甘盖斯特 ;
克里斯托弗·兴-均·李 ;
托马斯·李 ;
阿南德·N·伊耶 ;
刁杰 ;
焕波·张 ;
埃里克·S·罗丹姆 ;
李魏成 ;
吴正勋 .
美国专利 :CN113997194B ,2024-04-05
[5]
用于化学机械抛光的保持环 [P]. 
安德鲁·J·纳甘盖斯特 ;
克里斯托弗·兴-均·李 ;
托马斯·李 ;
阿南德·N·伊耶 ;
刁杰 ;
焕波·张 ;
埃里克·S·罗丹姆 ;
李魏成 ;
吴正勋 .
中国专利 :CN109475997A ,2019-03-15
[6]
用于化学机械抛光的保持环 [P]. 
安德鲁·J·纳甘盖斯特 ;
克里斯托弗·兴-均·李 ;
托马斯·李 ;
阿南德·N·伊耶 ;
刁杰 ;
焕波·张 ;
埃里克·S·罗丹姆 ;
李魏成 ;
吴正勋 .
中国专利 :CN113997194A ,2022-02-01
[7]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头 [P]. 
刘建业 .
中国专利 :CN213858731U ,2021-08-03
[8]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头 [P]. 
赵德文 ;
刘远航 ;
孟松林 .
中国专利 :CN118163032A ,2024-06-11
[9]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头 [P]. 
赵德文 ;
刘远航 ;
孟松林 .
中国专利 :CN110524412B ,2024-07-12
[10]
保持环修整装置、化学机械抛光单元及其控制方法和化学机械抛光设备 [P]. 
李润豪 ;
刘鑫博 ;
张洪蛟 ;
王科 .
中国专利 :CN119704044A ,2025-03-28
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