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一种晶片抛光用陶瓷盘及抛光装置
被引:0
申请号
:
CN202122893597.5
申请日
:
2021-11-23
公开(公告)号
:
CN216802999U
公开(公告)日
:
2022-06-24
发明(设计)人
:
廖彬
周铁军
曾琦
张昌文
申请人
:
申请人地址
:
511500 广东省清远市高新区创兴三路16号A车间
IPC主分类号
:
B24B4106
IPC分类号
:
B24B2902
代理机构
:
清远市清城区诺誉知识产权代理事务所(普通合伙) 44815
代理人
:
龚元元
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-24
授权
授权
共 50 条
[1]
抛光用陶瓷盘
[P].
刘晓强
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘晓强
.
中国专利
:CN203003705U
,2013-06-19
[2]
一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置
[P].
吴泓明
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机构:
郑州合晶硅材料有限公司
郑州合晶硅材料有限公司
吴泓明
;
钟佑生
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机构:
郑州合晶硅材料有限公司
郑州合晶硅材料有限公司
钟佑生
;
陈志刚
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机构:
郑州合晶硅材料有限公司
郑州合晶硅材料有限公司
陈志刚
;
周军磊
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机构:
郑州合晶硅材料有限公司
郑州合晶硅材料有限公司
周军磊
;
李常存
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机构:
郑州合晶硅材料有限公司
郑州合晶硅材料有限公司
李常存
.
中国专利
:CN220836787U
,2024-04-26
[3]
一种陶瓷盘用抛光装置
[P].
杨盛国
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杨盛国
;
唐占银
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唐占银
;
高赛魁
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高赛魁
.
中国专利
:CN217255383U
,2022-08-23
[4]
一种对InSb晶片抛光用陶瓷盘的清洗方法
[P].
孔忠弟
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孔忠弟
;
赵超
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赵超
;
彭志强
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彭志强
.
中国专利
:CN109365391A
,2019-02-22
[5]
一种单晶片抛光用抛光垫
[P].
张泽芳
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张泽芳
.
中国专利
:CN215547806U
,2022-01-18
[6]
晶片抛光用抛光垫
[P].
夏秋良
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夏秋良
.
中国专利
:CN205342781U
,2016-06-29
[7]
一种晶片抛光用抛光垫
[P].
宋献礼
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宋献礼
.
中国专利
:CN212794604U
,2021-03-26
[8]
一种多陶瓷盘内径抛光用固定工装
[P].
张东东
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0
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0
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张东东
.
中国专利
:CN216657572U
,2022-06-03
[9]
一种简易陶瓷盘振动抛光用磨料
[P].
宋从发
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宋从发
;
汪六一
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汪六一
;
马建健
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马建健
.
中国专利
:CN106147708A
,2016-11-23
[10]
一种晶片抛光用的抛光垫
[P].
杨来保
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机构:
深圳市今成科技有限公司
深圳市今成科技有限公司
杨来保
;
赵建涛
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机构:
深圳市今成科技有限公司
深圳市今成科技有限公司
赵建涛
.
中国专利
:CN222289776U
,2025-01-03
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