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一种用于双面镀膜的电镀系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121780273.4
申请日：
2021-08-02
公开(公告)号：
CN215757718U
公开(公告)日：
2022-02-08
发明(设计)人：
臧世伟
申请人：
申请人地址：
401420 重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号
IPC主分类号：
C25D1900
IPC分类号：
C25D1700
代理机构：
北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11624
代理人：
沈煜华
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-08 | 授权 | 授权 |