实现超大规模集成电路难熔金属硅化物阻挡层的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200410053420.2
申请日
2004-08-04
公开(公告)号
CN1731566A
公开(公告)日
2006-02-08
发明(设计)人
陈华伦
申请人
申请人地址
201206上海市浦东川桥路1188号
IPC主分类号
H01L21316
IPC分类号
H01L21318 H01L21314 H01L21311
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人
丁纪铁
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
超大规模集成电路难熔金属硅化物的形成方法 [P]. 
陈华伦 .
中国专利 :CN100416778C ,2008-09-03
[2]
超大规模集成电路锁 [P]. 
罗东升 .
中国专利 :CN87210846U ,1988-12-21
[3]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871457A ,2021-12-31
[4]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871459A ,2021-12-31
[5]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871458A ,2021-12-31
[6]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
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[7]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
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[8]
超大规模集成电路的制造方法 [P]. 
黄令仪 ;
旷章曲 ;
朱亚江 ;
孟津棣 ;
陈晓东 ;
仇玉林 .
中国专利 :CN1110849C ,2001-01-24
[9]
超晶格超大规模集成电路 [P]. 
林和 .
中国专利 :CN113871460A ,2021-12-31
[10]
超大规模集成电路的精确电容测量 [P]. 
董易谕 ;
张克正 ;
米玉杰 ;
刘莎莉 ;
洪连嵘 ;
张智援 .
中国专利 :CN101363882B ,2009-02-11