还原剂喷射装置、废气处理装置以及废气处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201480017393.5
申请日
2014-03-18
公开(公告)号
CN105050692A
公开(公告)日
2015-11-11
发明(设计)人
笠井义幸 间瀬和弥 齐木胜已
申请人
申请人地址
日本国爱知县名古屋市瑞穗区须田町2番56号
IPC主分类号
B01D5394
IPC分类号
B01D5386 F01N308 F01N328
代理机构
上海市华诚律师事务所 31210
代理人
李晓
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
还原剂喷射装置、废气处理装置以及废气处理方法 [P]. 
笠井义幸 ;
间瀬和弥 ;
齐木胜已 .
中国专利 :CN109012175A ,2018-12-18
[2]
还原剂喷射装置以及废气处理方法 [P]. 
斋木胜巳 ;
大宫好雅 ;
石原拓也 .
中国专利 :CN107261839A ,2017-10-20
[3]
还原剂喷射装置、以及废气处理装置 [P]. 
大宫好雅 ;
斋木胜巳 ;
石原拓也 .
中国专利 :CN107269353A ,2017-10-20
[4]
还原剂喷射装置以及废气处理装置 [P]. 
石原拓也 ;
大宫好雅 ;
斋木胜巳 .
中国专利 :CN107269360A ,2017-10-20
[5]
还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P]. 
斋木胜巳 ;
柴垣行成 .
中国专利 :CN113167156A ,2021-07-23
[6]
还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P]. 
斋木胜巳 ;
柴垣行成 .
中国专利 :CN113167155A ,2021-07-23
[7]
还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P]. 
斋木胜巳 ;
柴垣行成 .
中国专利 :CN113167157A ,2021-07-23
[8]
还原剂喷射器用垫片以及废气后处理装置 [P]. 
平山道夫 ;
池田泰辅 ;
大西诚一 .
中国专利 :CN106194343A ,2016-12-07
[9]
用于向废气处理装置添加还原剂的方法 [P]. 
彼得·鲍尔 .
中国专利 :CN104428505A ,2015-03-18
[10]
废气处理剂、废气处理方法以及废气处理装置 [P]. 
长谷川英晴 ;
石原良夫 ;
铃木克昌 .
中国专利 :CN1913955A ,2007-02-14