还原剂喷射装置、以及废气处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710178355.3

申请日：

2017-03-23

公开(公告)号：

CN107269353A

公开(公告)日：

2017-10-20

发明(设计)人：

大宫好雅斋木胜巳石原拓也

申请人：

申请人地址：

日本爱知县

IPC主分类号：

F01N320

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

钟晶;陈彦

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):F01N 3/20 申请日:20170323
2017-10-20	公开	公开
2022-07-22	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):F01N 3/20 申请公布日:20171020

共 50 条

[1]

还原剂喷射装置以及废气处理装置 [P].

石原拓也 ;

大宫好雅 ;

斋木胜巳 .

中国专利 :CN107269360A ,2017-10-20

[2]

还原剂喷射装置以及废气处理方法 [P].

斋木胜巳 ;

大宫好雅 ;

石原拓也 .

中国专利 :CN107261839A ,2017-10-20

[3]

还原剂喷射装置、废气处理装置以及废气处理方法 [P].

笠井义幸 ;

间瀬和弥 ;

齐木胜已 .

中国专利 :CN109012175A ,2018-12-18

[4]

还原剂喷射装置、废气处理装置以及废气处理方法 [P].

笠井义幸 ;

间瀬和弥 ;

齐木胜已 .

中国专利 :CN105050692A ,2015-11-11

[5]

还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P].

斋木胜巳 ;

柴垣行成 .

中国专利 :CN113167156A ,2021-07-23

[6]

还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P].

斋木胜巳 ;

柴垣行成 .

中国专利 :CN113167157A ,2021-07-23

[7]

还原剂喷射装置、废气处理装置及废气处理方法 [P].

斋木胜巳 ;

柴垣行成 .

中国专利 :CN113167155A ,2021-07-23

[8]

还原剂喷射装置 [P].

大串彰秀 ;

大石和贵 .

中国专利 :CN111742122B ,2020-10-02

[9]

还原剂喷射装置的控制装置及控制方法、以及还原剂喷射装置 [P].

黒木史宏 ;

土门涉 ;

菊地敦 ;

国岛旭 ;

田代翔吾 ;

中尾英志 ;

渡部泰幸 .

中国专利 :CN107076001B ,2017-08-18

[10]

还原剂喷射器用垫片以及废气后处理装置 [P].

平山道夫 ;

池田泰辅 ;

大西诚一 .

中国专利 :CN106194343A ,2016-12-07

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