还原剂喷射装置的控制装置及控制方法、以及还原剂喷射装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580057368.4

申请日：

2015-09-30

公开(公告)号：

CN107076001B

公开(公告)日：

2017-08-18

发明(设计)人：

黒木史宏土门涉菊地敦国岛旭田代翔吾中尾英志渡部泰幸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

F01N320

IPC分类号：

F01N308 B01D5394 B01D5390 B01D5386

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

张雨;邓雪萌

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101747176095 IPC(主分类):F01N 3/20 专利申请号:2015800573684 申请日:20150930
2022-09-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F01N 3/20 申请日:20150930 授权公告日:20190823 终止日期:20210930
2017-08-18	公开	公开
2019-08-23	授权	授权

共 50 条

[1]

还原剂喷射装置的控制装置 [P].

关根修三 ;

田代翔吾 .

中国专利 :CN106988836B ,2017-07-28

[2]

还原剂喷射装置 [P].

大串彰秀 ;

大石和贵 .

中国专利 :CN111742122B ,2020-10-02

[3]

还原剂喷射控制策略 [P].

C·E·索尔布里格 .

中国专利 :CN101285414A ,2008-10-15

[4]

还原剂供给装置的控制方法及还原剂供给装置 [P].

大野成弘 .

中国专利 :CN104870766B ,2015-08-26

[5]

用于控制还原剂的喷射的方法和装置 [P].

比约恩·韦斯特贝里 .

中国专利 :CN100443700C ,2007-01-31

[6]

还原剂供给装置、还原剂供给装置控制方法及控制装置 [P].

木村光良 ;

吉田达矢 .

日本专利 :CN119365670A ,2025-01-24

[7]

还原剂喷射装置、以及废气处理装置 [P].

大宫好雅 ;

斋木胜巳 ;

石原拓也 .

中国专利 :CN107269353A ,2017-10-20

[8]

还原剂喷射装置以及废气处理装置 [P].

石原拓也 ;

大宫好雅 ;

斋木胜巳 .

中国专利 :CN107269360A ,2017-10-20

[9]

还原剂喷射装置以及废气处理方法 [P].

斋木胜巳 ;

大宫好雅 ;

石原拓也 .

中国专利 :CN107261839A ,2017-10-20

[10]

SCR系统中的还原剂喷射控制装置 [P].

郝庆军 .

中国专利 :CN103174497A ,2013-06-26

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