真空感应熔炼去除硅粉中磷及金属杂质的方法及设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110033792.9

申请日：

2011-01-31

公开(公告)号：

CN102173424A

公开(公告)日：

2011-09-07

发明(设计)人：

谭毅姜大川董伟郭校亮顾正庞大宇石爽

申请人：

申请人地址：

116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号

IPC主分类号：

C01B33037

IPC分类号：

代理机构：

大连星海专利事务所 21208

代理人：

于忠晶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101131513136 IPC(主分类):C01B 33/037 专利申请号:2011100337929 申请日:20110131
2017-03-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101709958237 IPC(主分类):C01B 33/037 专利号:ZL2011100337929 申请日:20110131 授权公告日:20131030 终止日期:20160131
2011-09-07	公开	公开
2013-10-30	授权	授权

共 50 条

[1]

真空感应熔炼去除硅中磷杂质的方法 [P].

罗学涛 ;

郑淞生 ;

蔡靖 ;

陈文辉 ;

李锦堂 ;

陈朝 .

中国专利 :CN101628719A ,2010-01-20

[2]

去除多晶硅中杂质磷和金属杂质的方法及装置 [P].

谭毅 ;

李国斌 ;

姜大川 ;

许富民 ;

王强 .

中国专利 :CN101289188B ,2008-10-22

[3]

感应和电子束熔炼去除多晶硅中杂质磷和硼的方法及装置 [P].

战丽姝 ;

李国斌 ;

谭毅 ;

董伟 ;

姜大川 .

中国专利 :CN101787563A ,2010-07-28

[4]

电子束熔炼高效去除硅中杂质磷的方法及装置 [P].

战丽姝 ;

谭毅 ;

董伟 ;

李国斌 .

中国专利 :CN101941698B ,2011-01-12

[5]

电子束去除硅中磷及金属杂质的工艺方法 [P].

邢馨月 ;

郭校亮 .

中国专利 :CN109019606A ,2018-12-18

[6]

一种去除多晶硅中磷杂质的设备 [P].

罗立国 ;

方红承 ;

彭金鑫 ;

母清林 ;

周冰 .

中国专利 :CN203754434U ,2014-08-06

[7]

去除多晶硅中金属杂质的方法 [P].

张海霞 ;

张海军 ;

车永军 ;

田鹏 .

中国专利 :CN102674365A ,2012-09-19

[8]

感应蒸发去除多晶硅中杂质硼的方法及装置 [P].

战丽姝 ;

李国斌 ;

谭毅 .

中国专利 :CN101774586A ,2010-07-14

[9]

一种去除金属硅中硼磷杂质的方法 [P].

刘立新 .

中国专利 :CN104843710B ,2015-08-19

[10]

连续熔炼去除多晶硅中磷和硼的方法及装置 [P].

谭毅 ;

董伟 ;

李国斌 ;

姜大川 .

中国专利 :CN101708850A ,2010-05-19

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