有机硅类压敏粘接剂和具有有机硅类压敏粘接层的叠层体

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201680012561.0
申请日
2016-03-03
公开(公告)号
CN107250313A
公开(公告)日
2017-10-13
发明(设计)人
日野贤一 田中尚子 中村昭宏
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C09J18307
IPC分类号
C09J702 C09J1100 C09J18305
代理机构
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
郭辉
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
有机硅压敏粘接剂组合物及其用途 [P]. 
饭村智浩 ;
吉武诚 ;
田中尚子 ;
古川晴彦 .
中国专利 :CN113302255A ,2021-08-24
[2]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
斋藤正浩 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN114341294A ,2022-04-12
[3]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN112654687A ,2021-04-13
[4]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
日本专利 :CN114269876B ,2024-05-14
[5]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN112703240B ,2021-04-23
[6]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN114269876A ,2022-04-01
[7]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
斋藤正浩 ;
须藤通孝 .
日本专利 :CN114341294B ,2024-05-28
[8]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
日本专利 :CN114269875B ,2024-05-14
[9]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN112673073B ,2021-04-16
[10]
压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用 [P]. 
伊藤真树 ;
中村昭宏 ;
须藤通孝 .
中国专利 :CN114269875A ,2022-04-01