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一种晶片腐蚀液及腐蚀方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011057130.0
申请日
:
2020-09-29
公开(公告)号
:
CN112251818A
公开(公告)日
:
2021-01-22
发明(设计)人
:
周一
毕洪伟
申请人
:
申请人地址
:
404040 重庆市万州区万州经开区高峰园B02
IPC主分类号
:
C30B3310
IPC分类号
:
C30B2940
代理机构
:
广州市华学知识产权代理有限公司 44245
代理人
:
张晨
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-09
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 33/10 申请日:20200929
2022-12-02
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 33/10 申请公布日:20210122
2021-01-22
公开
公开
共 50 条
[1]
一种腐蚀磷化铟单晶片的腐蚀液及腐蚀方法
[P].
林健
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林健
;
赵权
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赵权
;
刘春香
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刘春香
;
吕菲
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吕菲
;
杨洪星
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杨洪星
;
于妍
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于妍
;
佟丽英
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佟丽英
.
中国专利
:CN102796526A
,2012-11-28
[2]
一种晶片的位错腐蚀液及位错腐蚀方法
[P].
练小正
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苏州燎塬半导体有限公司
苏州燎塬半导体有限公司
练小正
;
高洁
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机构:
苏州燎塬半导体有限公司
苏州燎塬半导体有限公司
高洁
;
胡萍
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机构:
苏州燎塬半导体有限公司
苏州燎塬半导体有限公司
胡萍
;
许照原
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机构:
苏州燎塬半导体有限公司
苏州燎塬半导体有限公司
许照原
.
中国专利
:CN116815330B
,2024-07-12
[3]
一种磷化铟晶片的腐蚀方法
[P].
周一
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机构:
威科赛乐微电子股份有限公司
威科赛乐微电子股份有限公司
周一
;
毕洪伟
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机构:
威科赛乐微电子股份有限公司
威科赛乐微电子股份有限公司
毕洪伟
;
彭杰
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机构:
威科赛乐微电子股份有限公司
威科赛乐微电子股份有限公司
彭杰
.
中国专利
:CN113707535B
,2024-07-19
[4]
一种磷化铟晶片的腐蚀方法
[P].
周一
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周一
;
毕洪伟
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毕洪伟
;
彭杰
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彭杰
.
中国专利
:CN113707535A
,2021-11-26
[5]
一种半导体硅晶片腐蚀液及其腐蚀方法
[P].
郏金鹏
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郏金鹏
;
陈诚
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陈诚
;
王平
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王平
;
王峰
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王峰
;
张各海
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张各海
;
袁超
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袁超
;
张凌鹓
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张凌鹓
.
中国专利
:CN106024675A
,2016-10-12
[6]
一种用于磷化铟表面孪晶识别的腐蚀液及腐蚀方法
[P].
宋向荣
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宋向荣
;
严卫东
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严卫东
;
周铁军
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周铁军
;
马金峰
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马金峰
;
刘火阳
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刘火阳
;
詹晨晨
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詹晨晨
.
中国专利
:CN110453289A
,2019-11-15
[7]
一种腐蚀液及腐蚀方法
[P].
李春领
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李春领
;
侯晓敏
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侯晓敏
;
刘海龙
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刘海龙
;
张瑛侠
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张瑛侠
;
孙海燕
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孙海燕
.
中国专利
:CN103205752A
,2013-07-17
[8]
腐蚀液及腐蚀方法
[P].
板野充司
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板野充司
;
金村崇
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金村崇
;
百田博史
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百田博史
;
渡边大祐
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渡边大祐
.
中国专利
:CN1682355A
,2005-10-12
[9]
腐蚀多孔硅用的腐蚀液以及、使用该腐蚀液的腐蚀方法
[P].
坂口清文
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坂口清文
;
米原隆夫
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米原隆夫
;
左藤信彦
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左藤信彦
.
中国专利
:CN1037727C
,1992-12-02
[10]
一种镍铬合金金相腐蚀液及腐蚀方法
[P].
杨志强
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杨志强
;
陈琴
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陈琴
;
刘广龙
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刘广龙
;
王克震
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王克震
;
张海峰
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张海峰
;
熊炜
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熊炜
;
李琛
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李琛
.
中国专利
:CN104513985A
,2015-04-15
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