半色调式相移掩模及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN95101326.2

申请日：

1995-01-29

公开(公告)号：

CN1115411A

公开(公告)日：

1996-01-24

发明(设计)人：

咸泳穆

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道利川郡

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

代理机构：

北京市中原信达知识产权代理公司

代理人：

余朦

法律状态：

实质审查请求的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1996-02-14	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1996-01-24	公开	公开
2015-03-25	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101602904871 IPC(主分类):G03F 1/08 专利号:ZL951013262 申请日:19950129 授权公告日:20020529 终止日期:20140129
2002-05-29	授权	授权

共 50 条

[1]

半色调式相移掩模及其制备方法 [P].

咸泳穆 .

中国专利 :CN1115408A ,1996-01-24

[2]

半色调相移掩模坯料以及半色调相移掩模的制造方法 [P].

深谷创一 ;

中川秀夫 ;

笹本纮平 .

中国专利 :CN103424981A ,2013-12-04

[3]

半色调相移型光掩模坯料、其制造方法以及半色调相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

樱井敬佑 .

中国专利 :CN112578628A ,2021-03-30

[4]

光图案曝光方法，半色调相移掩模及半色调相移掩模坯料 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

小板桥龙二 ;

金子英雄 ;

小岛洋介 ;

原口崇 ;

广濑智一 .

中国专利 :CN103149791A ,2013-06-12

[5]

用于制备半色调相移掩模坯的方法、半色调相移掩模坯、半色调相移掩模和薄膜形成设备 [P].

稻月判臣 .

中国专利 :CN107765508B ,2018-03-06

[6]

半色调相移光掩模坯料 [P].

稻月判臣 ;

深谷创一 .

中国专利 :CN108572510A ,2018-09-25

[7]

相移掩模及其制造方法 [P].

裵相满 .

中国专利 :CN1162766A ,1997-10-22

[8]

相移掩模及其制造方法 [P].

金永武 ;

咸泳穆 .

中国专利 :CN1081804C ,1996-01-17

[9]

制造半调相移掩模的方法 [P].

朴义相 .

中国专利 :CN101419397A ,2009-04-29

[10]

相移光掩模及其制造方法 [P].

斯科特·艾伦·安德森 ;

小伊·陈 ;

迈克尔·N·格里姆博根 ;

阿杰伊·库玛 .

中国专利 :CN101144971A ,2008-03-19

← 1 2 3 4 5 →