相移光掩模及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710145848.3

申请日：

2007-08-30

公开(公告)号：

CN101144971A

公开(公告)日：

2008-03-19

发明(设计)人：

斯科特·艾伦·安德森小伊·陈迈克尔·N·格里姆博根阿杰伊·库玛

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人：

徐金国;梁挥

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-02-15	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101281321709 IPC(主分类):G03F 1/00 专利号:ZL2007101458483 变更事项:专利权人变更前:应用材料股份有限公司变更后:应用材料公司变更事项:地址变更前:美国加利福尼亚州变更后:美国加利福尼亚州
2016-10-19	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101683510018 IPC(主分类):G03F 1/00 专利号:ZL2007101458483 申请日:20070830 授权公告日:20110330 终止日期:20150830
2008-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-03-19	公开	公开

共 50 条

[1]

相移掩模及其制造方法 [P].

金永武 ;

咸泳穆 .

中国专利 :CN1081804C ,1996-01-17

[2]

光掩模坯料、光掩模的制造方法以及相移掩模的制造方法 [P].

深谷创一 ;

中川秀夫 ;

笹本纮平 .

中国专利 :CN103424980A ,2013-12-04

[3]

Levenson型相移掩模及其制造方法 [P].

小岛洋介 ;

小西敏雄 ;

田中启司 ;

大泷雅央 ;

佐佐木淳 .

中国专利 :CN1973244B ,2007-05-30

[4]

相移型光掩模坯料和相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

小泽良兼 .

中国专利 :CN110955109A ,2020-04-03

[5]

相移型光掩模坯料和相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

小泽良兼 .

日本专利 :CN110955109B ,2025-04-22

[6]

半色调式相移掩模及其制造方法 [P].

咸泳穆 .

中国专利 :CN1115411A ,1996-01-24

[7]

半色调相移型光掩模坯料、其制造方法以及半色调相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

樱井敬佑 .

中国专利 :CN112578628A ,2021-03-30

[8]

制造半调相移掩模的方法 [P].

朴义相 .

中国专利 :CN101419397A ,2009-04-29

[9]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

日本专利 :CN109307982B ,2024-09-03

[10]

光掩模坯料、光掩模坯料制造方法和光掩模制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

金子英雄 ;

入江重夫 ;

川浦直树 .

中国专利 :CN109307982A ,2019-02-05

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