一种生长过渡金属二硫化物薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810261933.4
申请日
2018-03-28
公开(公告)号
CN108441841A
公开(公告)日
2018-08-24
发明(设计)人
王新炜 国政
申请人
申请人地址
518055 广东省深圳市南山区西丽深圳大学城北大园区H栋208室
IPC主分类号
C23C1630
IPC分类号
C23C16455
代理机构
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268
代理人
王永文;刘文求
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
碱金属插层过渡金属二硫化物的制备方法 [P]. 
吕晴 ;
李强 .
中国专利 :CN101948099B ,2011-01-19
[2]
一种过渡金属二硫化物薄膜的制备方法及热退火炉 [P]. 
庄萍萍 ;
林伟毅 ;
刘璟 ;
李波 ;
叶添 ;
闫晗 ;
曾聪 .
中国专利 :CN117446864B ,2024-12-13
[3]
一种过渡金属二硫化物薄膜的制备方法及热退火炉 [P]. 
庄萍萍 ;
林伟毅 ;
刘璟 ;
李波 ;
叶添 ;
闫晗 ;
曾聪 .
中国专利 :CN117446864A ,2024-01-26
[4]
过渡金属二硫化物单层晶体的相控合成方法 [P]. 
张华 ;
翟伟 ;
王永吉 .
中国专利 :CN118422326A ,2024-08-02
[5]
保形金属二硫化物 [P]. 
辰丹·达斯 ;
苏米特·辛格·罗伊 ;
巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;
苏普里亚·戈什 ;
唐洁聪 ;
约翰·苏迪约诺 ;
阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ;
马克·萨利 .
美国专利 :CN118414449A ,2024-07-30
[6]
一种自支撑过渡金属二硫化物/碳复合薄膜的制备方法 [P]. 
吕瑞涛 ;
王旭阳 ;
黄正宏 ;
沈万慈 ;
康飞宇 .
中国专利 :CN105514446A ,2016-04-20
[7]
一种过渡金属二硫化物纳米材料的制备方法 [P]. 
丁宏卫 ;
杨静静 ;
李国印 ;
刘学良 ;
吴超鹏 ;
靳林 .
中国专利 :CN120483265A ,2025-08-15
[8]
1T-相过渡金属二硫化物纳米片 [P]. 
罗伯特·杰夫 ;
安迪奈特·伊基古 ;
伊恩·金洛克 .
中国专利 :CN110214125A ,2019-09-06
[9]
表面生长过渡金属二硫化物的上转换发光纳米复合材料、制备方法及应用 [P]. 
孙丽宁 ;
汪姝含 ;
方建慧 ;
赵慧君 ;
王卓 ;
赵磊 .
中国专利 :CN108949151A ,2018-12-07
[10]
一种制备二硫化物的方法 [P]. 
安杰 ;
覃子轩 ;
王莉君 ;
李恒朝 ;
李笑 ;
旷子晨 ;
余治苑 .
中国专利 :CN114920673A ,2022-08-19