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一种生长过渡金属二硫化物薄膜的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810261933.4
申请日
:
2018-03-28
公开(公告)号
:
CN108441841A
公开(公告)日
:
2018-08-24
发明(设计)人
:
王新炜
国政
申请人
:
申请人地址
:
518055 广东省深圳市南山区西丽深圳大学城北大园区H栋208室
IPC主分类号
:
C23C1630
IPC分类号
:
C23C16455
代理机构
:
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268
代理人
:
王永文;刘文求
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-06-09
授权
授权
2018-09-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/30 申请日:20180328
2018-08-24
公开
公开
共 50 条
[1]
碱金属插层过渡金属二硫化物的制备方法
[P].
吕晴
论文数:
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吕晴
;
李强
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李强
.
中国专利
:CN101948099B
,2011-01-19
[2]
一种过渡金属二硫化物薄膜的制备方法及热退火炉
[P].
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机构:
庄萍萍
;
论文数:
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机构:
林伟毅
;
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机构:
刘璟
;
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机构:
李波
;
叶添
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集美大学
集美大学
叶添
;
闫晗
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机构:
集美大学
集美大学
闫晗
;
曾聪
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机构:
集美大学
集美大学
曾聪
.
中国专利
:CN117446864B
,2024-12-13
[3]
一种过渡金属二硫化物薄膜的制备方法及热退火炉
[P].
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机构:
庄萍萍
;
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机构:
林伟毅
;
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机构:
刘璟
;
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机构:
李波
;
叶添
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集美大学
集美大学
叶添
;
闫晗
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集美大学
集美大学
闫晗
;
曾聪
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集美大学
集美大学
曾聪
.
中国专利
:CN117446864A
,2024-01-26
[4]
过渡金属二硫化物单层晶体的相控合成方法
[P].
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机构:
张华
;
翟伟
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机构:
香港城市大学深圳研究院
香港城市大学深圳研究院
翟伟
;
王永吉
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机构:
香港城市大学深圳研究院
香港城市大学深圳研究院
王永吉
.
中国专利
:CN118422326A
,2024-08-02
[5]
保形金属二硫化物
[P].
辰丹·达斯
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应用材料公司
应用材料公司
辰丹·达斯
;
苏米特·辛格·罗伊
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应用材料公司
应用材料公司
苏米特·辛格·罗伊
;
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
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应用材料公司
应用材料公司
巴斯卡尔·乔蒂·布雅
;
苏普里亚·戈什
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应用材料公司
应用材料公司
苏普里亚·戈什
;
唐洁聪
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应用材料公司
应用材料公司
唐洁聪
;
约翰·苏迪约诺
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应用材料公司
应用材料公司
约翰·苏迪约诺
;
阿卜希吉特·巴苏·马尔利克
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应用材料公司
应用材料公司
阿卜希吉特·巴苏·马尔利克
;
马克·萨利
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应用材料公司
应用材料公司
马克·萨利
.
美国专利
:CN118414449A
,2024-07-30
[6]
一种自支撑过渡金属二硫化物/碳复合薄膜的制备方法
[P].
吕瑞涛
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吕瑞涛
;
王旭阳
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王旭阳
;
黄正宏
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黄正宏
;
沈万慈
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沈万慈
;
康飞宇
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康飞宇
.
中国专利
:CN105514446A
,2016-04-20
[7]
一种过渡金属二硫化物纳米材料的制备方法
[P].
丁宏卫
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机构:
周口师范学院
周口师范学院
丁宏卫
;
杨静静
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机构:
周口师范学院
周口师范学院
杨静静
;
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机构:
李国印
;
刘学良
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机构:
周口师范学院
周口师范学院
刘学良
;
吴超鹏
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机构:
周口师范学院
周口师范学院
吴超鹏
;
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机构:
靳林
.
中国专利
:CN120483265A
,2025-08-15
[8]
1T-相过渡金属二硫化物纳米片
[P].
罗伯特·杰夫
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罗伯特·杰夫
;
安迪奈特·伊基古
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安迪奈特·伊基古
;
伊恩·金洛克
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伊恩·金洛克
.
中国专利
:CN110214125A
,2019-09-06
[9]
表面生长过渡金属二硫化物的上转换发光纳米复合材料、制备方法及应用
[P].
孙丽宁
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孙丽宁
;
汪姝含
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汪姝含
;
方建慧
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方建慧
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赵慧君
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赵慧君
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王卓
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王卓
;
赵磊
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赵磊
.
中国专利
:CN108949151A
,2018-12-07
[10]
一种制备二硫化物的方法
[P].
安杰
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安杰
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覃子轩
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覃子轩
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王莉君
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王莉君
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李恒朝
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李恒朝
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李笑
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李笑
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旷子晨
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旷子晨
;
余治苑
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余治苑
.
中国专利
:CN114920673A
,2022-08-19
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