光刻设备和制造器件的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580051801.3

申请日：

2015-06-30

公开(公告)号：

CN106716255A

公开(公告)日：

2017-05-24

发明(设计)人：

N·J·M·范德纽维拉尔 V·M·布兰科卡巴洛 C·R·德格鲁特 R·H·J·屈斯泰 D·M·菲利普斯 F·A·范德桑德 P·L·J·岗特尔 E·H·E·C·尤姆麦伦 Y·J·G·范德维基沃尔 B·D·斯霍尔滕 M·武泰 R·F·科克斯 J·A·维埃拉萨拉斯

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王静

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[21]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约翰内斯·昂伍李 ;

彼得·德亚格尔 ;

埃尔温·范茨韦特 .

中国专利 :CN102763041A ,2012-10-31

[22]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·布里克尔 ;

L·德温特 .

中国专利 :CN103765316A ,2014-04-30

[23]

光刻设备和器件制造方法 [P].

汉斯·巴特勒 ;

让杰拉德·C·范德吐恩 ;

马特吉·胡克斯 ;

维尔姆斯·F·J·西蒙斯 .

中国专利 :CN100565351C ,2008-01-30

[24]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·J·M·德容 ;

L·L·F·米克斯 ;

R·J·E·梅里 .

中国专利 :CN106170727B ,2016-11-30

[25]

光刻设备和器件制造方法 [P].

P·P·J·伯克文斯 ;

R·F·德格拉夫 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

R·范德汉姆 ;

W·F·J·西蒙斯 ;

D·J·M·迪艾克斯 ;

F·J·J·杰森 ;

P·W·斯考蒂斯 ;

G-J·G·J·T·布兰德斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

H·H·A·兰姆彭斯 ;

M·A·K·范力洛普 ;

C·德麦特森艾尔 ;

M·A·C·马兰达 ;

P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 ;

J·J·A-M·沃斯特拉艾斯 .

中国专利 :CN102063023B ,2011-05-18

[26]

光刻设备和器件制造方法 [P].

P·P·J·伯克文斯 ;

R·F·德格拉夫 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

R·范德汉姆 ;

W·F·J·西蒙斯 ;

D·J·M·迪艾克斯 ;

F·J·J·杰森 ;

P·W·斯考蒂斯 ;

G-J·G·J·T·布兰德斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

H·H·A·兰姆彭斯 ;

M·A·K·范力洛普 ;

C·德麦特森艾尔 ;

M·A·C·马兰达 ;

P·J·W·斯普鲁伊藤伯格 ;

J·J·A-M·沃斯特拉艾斯 .

中国专利 :CN101446776B ,2009-06-03

[27]

光刻设备和器件制造方法 [P].

M·J·E·G·布瑞克尔斯 ;

马赛尔·弗兰克斯·赫尔特杰斯 ;

N·J·M·博施 .

中国专利 :CN102608871B ,2012-07-25

[28]

光刻簇、光刻设备和器件制造方法 [P].

I·采马 ;

E·B·凯蒂 ;

J·D·康妮 .

中国专利 :CN111316170A ,2020-06-19

[29]

衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法 [P].

G·纳齐博格鲁 ;

C·H·M·伯尔蒂斯 ;

S·A·特姆普 ;

Y·J·G·范德维基沃尔 ;

B·D·斯霍尔滕 ;

D·D·J·A·范索姆恩 ;

M·J·H·弗雷肯 .

中国专利 :CN108292109B ,2018-07-17

[30]

位置传感器、光刻设备和用于制造器件的方法 [P].

S·R·休斯曼 ;

S·G·J·马斯杰森 ;

S·A·戈登 ;

D·阿克布鲁特 ;

A·波洛 .

中国专利 :CN109643072B ,2019-04-16

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-24	公开	公开
2019-06-14	授权	授权
2017-06-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101727783115 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015800518013 申请日:20150630