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投射系统的控制方法、投射系统以及投影仪
被引：0
申请号：
CN202210502743.3
申请日：
2022-05-10
公开(公告)号：
CN115348428A
公开(公告)日：
2022-11-15
发明(设计)人：
宍户洋一
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H04N931
IPC分类号：
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
章琴;邓毅
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-12-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 9/31 申请日:20220510 |
| 2022-11-15 | 公开 | 公开 |