投射系统、投影仪和投射位置检测方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710028243.X

申请日：

2017-01-13

公开(公告)号：

CN106993172B

公开(公告)日：

2017-07-28

发明(设计)人：

古井志纪

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H04N931

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

田喜庆;吴孟秋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 9/31 申请日:20170113
2017-07-28	公开	公开
2021-02-09	授权	授权

共 50 条

[1]

投影仪和投射系统 [P].

唐泽穰儿 .

中国专利 :CN110764340B ,2020-02-07

[2]

投影仪的控制方法、投影仪和投射系统 [P].

市枝博行 .

中国专利 :CN111435985B ,2020-07-21

[3]

投影仪和投射图像的方法 [P].

井上秀昭 .

中国专利 :CN100521755C ,2006-09-06

[4]

投射方法、投射系统以及投影仪 [P].

冈野修治 .

中国专利 :CN118741064A ,2024-10-01

[5]

投影仪、投射系统和投射方法 [P].

三好一弘 ;

春日博文 ;

西村直也 ;

尾岛匡则 .

中国专利 :CN110780513A ,2020-02-11

[6]

投射方法、投影仪和程序产品 [P].

内山喜照 ;

吉村顺 .

日本专利 :CN119496879A ,2025-02-21

[7]

投影仪和图像光投射方法 [P].

若林修 .

中国专利 :CN107430319A ,2017-12-01

[8]

投射系统的控制方法、投射系统以及投影仪 [P].

宍户洋一 .

日本专利 :CN115348428B ,2024-01-02

[9]

投射系统的控制方法、投射系统以及投影仪 [P].

宍户洋一 .

中国专利 :CN115348428A ,2022-11-15

[10]

投射系统、投射系统的控制方法以及投影仪 [P].

古井志纪 .

中国专利 :CN110099260B ,2019-08-06

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