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自支撑氮化镓衬底的制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110134149.5
申请日
:
2011-05-23
公开(公告)号
:
CN102208340B
公开(公告)日
:
2011-10-05
发明(设计)人
:
孙波
伊晓燕
刘志强
汪炼成
郭恩卿
王国宏
申请人
:
申请人地址
:
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
:
H01L2120
IPC分类号
:
H01L3300
C30B2938
C30B2500
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
汤保平
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-11-23
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101140145000 IPC(主分类):H01L 21/20 专利申请号:2011101341495 申请日:20110523
2014-04-23
授权
授权
2011-10-05
公开
公开
共 50 条
[1]
自支撑氮化镓衬底的制作方法
[P].
任俊杰
论文数:
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任俊杰
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN113903655A
,2022-01-07
[2]
自支撑氮化镓衬底的制作方法
[P].
任俊杰
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
任俊杰
;
王帅
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王帅
.
中国专利
:CN113903655B
,2025-12-05
[3]
氮化镓自支撑衬底的制作方法
[P].
何进密
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何进密
;
卢敬权
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卢敬权
;
任俊杰
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任俊杰
.
中国专利
:CN112151355B
,2020-12-29
[4]
n型氮化镓自支撑衬底的制作方法
[P].
卢敬权
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卢敬权
;
何进密
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何进密
;
任俊杰
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任俊杰
.
中国专利
:CN111128688B
,2020-05-08
[5]
自支撑氮化镓层及其制作方法
[P].
刘仁锁
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刘仁锁
;
王颖慧
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王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
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特洛伊·乔纳森·贝克
;
罗晓菊
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罗晓菊
.
中国专利
:CN111218643A
,2020-06-02
[6]
激光剥离制备自支撑氮化镓衬底的方法
[P].
张荣
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张荣
;
修向前
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修向前
;
徐剑
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徐剑
;
顾书林
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顾书林
;
卢佃清
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卢佃清
;
毕朝霞
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毕朝霞
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沈波
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沈波
;
刘治国
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刘治国
;
江若琏
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江若琏
;
施毅
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施毅
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朱顺明
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朱顺明
;
韩平
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韩平
;
胡立群
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胡立群
.
中国专利
:CN1383185A
,2002-12-04
[7]
镓金属薄膜的制作方法以及氮化镓衬底的保护方法
[P].
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机构:
邵凯恒
;
蔡亚伟
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
蔡亚伟
;
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机构:
夏嵩渊
;
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机构:
张育民
;
王建峰
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
王建峰
;
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机构:
徐科
.
中国专利
:CN113053731B
,2024-05-17
[8]
镓金属薄膜的制作方法以及氮化镓衬底的保护方法
[P].
邵凯恒
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邵凯恒
;
蔡亚伟
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蔡亚伟
;
夏嵩渊
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夏嵩渊
;
张育民
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张育民
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN113053731A
,2021-06-29
[9]
氮化镓衬底及其制作方法以及半导体器件的制作方法
[P].
王瑞
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王瑞
;
王彦彬
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王彦彬
;
敖辉
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东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
敖辉
;
庄文荣
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东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
庄文荣
;
颜建锋
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
颜建锋
.
中国专利
:CN119673763A
,2025-03-21
[10]
氮化镓衬底及其制作方法以及半导体器件的制作方法
[P].
王瑞
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王瑞
;
王彦彬
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王彦彬
;
敖辉
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
敖辉
;
庄文荣
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
庄文荣
;
颜建锋
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
颜建锋
.
中国专利
:CN119673763B
,2025-12-05
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