带有通孔的X射线光刻掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910080919.5

申请日：

2009-03-25

公开(公告)号：

CN101846874A

公开(公告)日：

2010-09-29

发明(设计)人：

谢常青马杰朱效立刘明陈宝钦叶甜春

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

周国城

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-29	公开	公开
2012-07-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101404332513 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:2009100809195 公开日:20100929
2010-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101016484900 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:2009100809195 申请日:20090325

共 50 条

[1]

X射线光刻掩模版的制备方法 [P].

王林军 ;

夏义本 ;

任玲 ;

蒋丽雯 ;

刘健敏 ;

苏青峰 .

中国专利 :CN1908813A ,2007-02-07

[2]

X射线光刻装置 [P].

姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫 .

中国专利 :CN1406383A ,2003-03-26

[3]

一种用于X射线光刻的相移掩模 [P].

冯伯儒 ;

张锦 ;

侯德胜 .

中国专利 :CN2432610Y ,2001-05-30

[4]

X射线光刻对准标记 [P].

王德强 ;

谢常青 ;

叶甜春 .

中国专利 :CN1627190A ,2005-06-15

[5]

X射线光刻对准标记图形 [P].

谢常青 ;

叶甜春 ;

陈大鹏 ;

李兵 .

中国专利 :CN1234050C ,2005-01-19

[6]

深亚微米X射线光刻装置 [P].

颜一鸣 ;

王大椿 ;

张胜基 ;

赫业军 ;

施修龄 ;

潘世友 ;

刘易成 ;

伍克军 .

中国专利 :CN2236665Y ,1996-10-02

[7]

X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法 [P].

谢常青 ;

叶甜春 ;

陈大鹏 ;

李兵 .

中国专利 :CN1567087A ,2005-01-19

[8]

用于X射线曝光的光刻掩模结构及其制备方法 [P].

朱效立 ;

谢常青 ;

叶甜春 ;

刘明 .

中国专利 :CN101515110A ,2009-08-26

[9]

X射线管以及包含其的X射线源 [P].

稻鹤务 .

中国专利 :CN101283435A ,2008-10-08

[10]

用于光线或射线切割的通孔或通槽式高速旋转切割装置 [P].

全林 ;

余小任 ;

苗亮亮 ;

潘孝兵 ;

刘恒 ;

景敏卿 ;

宋朝晖 ;

江新标 ;

苏春磊 ;

宋晓靓 ;

马燕 .

中国专利 :CN103107612A ,2013-05-15

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