X射线光刻对准标记图形

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03148990.7

申请日：

2003-07-03

公开(公告)号：

CN1234050C

公开(公告)日：

2005-01-19

发明(设计)人：

谢常青叶甜春陈大鹏李兵

申请人：

申请人地址：

100029北京市德胜门外祁家豁子

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汤保平

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-01-19	公开	公开
2005-03-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-09-12	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-12-28	授权	授权

共 50 条

[1]

X射线光刻对准标记 [P].

王德强 ;

谢常青 ;

叶甜春 .

中国专利 :CN1627190A ,2005-06-15

[2]

X射线光刻装置 [P].

姆拉丁·阿布比奇罗维奇·库马科夫 .

中国专利 :CN1406383A ,2003-03-26

[3]

深亚微米X射线光刻装置 [P].

颜一鸣 ;

王大椿 ;

张胜基 ;

赫业军 ;

施修龄 ;

潘世友 ;

刘易成 ;

伍克军 .

中国专利 :CN2236665Y ,1996-10-02

[4]

X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法 [P].

谢常青 ;

叶甜春 ;

陈大鹏 ;

李兵 .

中国专利 :CN1567087A ,2005-01-19

[5]

带有通孔的X射线光刻掩模 [P].

谢常青 ;

马杰 ;

朱效立 ;

刘明 ;

陈宝钦 ;

叶甜春 .

中国专利 :CN101846874A ,2010-09-29

[6]

X射线光刻掩模版的制备方法 [P].

王林军 ;

夏义本 ;

任玲 ;

蒋丽雯 ;

刘健敏 ;

苏青峰 .

中国专利 :CN1908813A ,2007-02-07

[7]

一种用于X射线光刻的相移掩模 [P].

冯伯儒 ;

张锦 ;

侯德胜 .

中国专利 :CN2432610Y ,2001-05-30

[8]

对准标记及图形对准方法 [P].

罗先刚 ;

刘吉夫 ;

李伟 ;

李雄 ;

张仁彦 .

中国专利 :CN117492336A ,2024-02-02

[9]

对准标记及图形对准方法 [P].

罗先刚 ;

刘吉夫 ;

李伟 ;

李雄 ;

张仁彦 .

中国专利 :CN117492336B ,2024-04-09

[10]

厚外延工艺光刻对准标记结构 [P].

刘继全 ;

高杏 ;

罗啸 ;

李伟峰 .

中国专利 :CN103676485B ,2014-03-26

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