一种离子注入设备的高效离化离子发生装置

被引：0

申请号：

CN202220099802.2

申请日：

2022-01-12

公开(公告)号：

CN217062007U

公开(公告)日：

2022-07-26

发明(设计)人：

郎文昌钱琦嘉蒋慧珍郭景燕林振宇陈盛旭赵涣波刘艳杰

申请人：

申请人地址：

325000 浙江省温州市瑞安市国际汽摩配工业园区

IPC主分类号：

H01J3708

IPC分类号：

C23C1435 C23C1448 C23C1454

代理机构：

温州名创知识产权代理有限公司 33258

代理人：

朱海晓

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-26	授权	授权

共 50 条

[1]

一种高效离化的离子注入方法 [P].

郎文昌 ;

钱琦嘉 ;

蒋慧珍 ;

郭景燕 ;

林振宇 ;

陈盛旭 ;

赵涣波 ;

刘艳杰 .

中国专利 :CN114540783A ,2022-05-27

[2]

离子注入设备、离子注入装置 [P].

廖祥华 ;

贺金良 ;

余懍智 ;

杨树鑫 .

中国专利 :CN223552495U ,2025-11-14

[3]

一种具有磁控溅射组件的离子注入设备 [P].

郎文昌 ;

蒋慧珍 ;

张慧 ;

刘艳杰 ;

赵涣波 ;

陈盛旭 ;

林振宇 ;

任肖炜 .

中国专利 :CN216947171U ,2022-07-12

[4]

一种提高离子离化率的离子注入方法 [P].

王向红 ;

黄婷婷 ;

何鸣 ;

张峻颖 .

中国专利 :CN114752909A ,2022-07-15

[5]

电子发生装置及离子注入设备 [P].

张新建 ;

张聪 ;

石庆球 .

中国专利 :CN110277297A ,2019-09-24

[6]

离子注入设备 [P].

徐义 ;

张时阁 .

中国专利 :CN209804588U ,2019-12-17

[7]

离子注入设备 [P].

洪俊华 ;

沈培俊 .

中国专利 :CN203932014U ,2014-11-05

[8]

离子注入设备 [P].

何川 ;

洪俊华 ;

张劲 ;

陈炯 ;

杨勇 .

中国专利 :CN207269015U ,2018-04-24

[9]

离子注入设备 [P].

何川 ;

洪俊华 ;

张劲 ;

陈炯 ;

杨勇 .

中国专利 :CN207458887U ,2018-06-05

[10]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

松本贵雄 ;

织平浩一 ;

中尾和浩 ;

中村光则 .

中国专利 :CN100505140C ,2006-06-28

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