一种提高镀膜均匀性的镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202121867710.6

申请日：

2021-08-10

公开(公告)号：

CN215365960U

公开(公告)日：

2021-12-31

发明(设计)人：

龙何军

申请人：

申请人地址：

528400 广东省中山市火炬开发区敬业路13号的A栋厂房第一层B区

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1450

代理机构：

中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327

代理人：

杨连华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-31	授权	授权

共 50 条

[1]

一种提高镀膜均匀性的镀膜治具 [P].

陈思荣 .

中国专利 :CN217052385U ,2022-07-26

[2]

一种提高镀膜均匀性的镀膜治具 [P].

马约布 .

中国专利 :CN214991831U ,2021-12-03

[3]

一种提高镀膜均匀性的镀膜治具 [P].

王婷 ;

高茂松 .

中国专利 :CN210657120U ,2020-06-02

[4]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

袁小夫 ;

舒本剑 ;

李均平 .

中国专利 :CN222931104U ,2025-06-03

[5]

一种提高镀膜均匀性N型TOPCon电池镀膜装置 [P].

刘畅 ;

李军 ;

赵明 .

中国专利 :CN119584690A ,2025-03-07

[6]

一种可改善磁控溅射镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

班超 ;

程春生 ;

张钦廉 ;

曹嘉寰 ;

符东浩 ;

李传文 ;

刘毅楠 ;

赵浩 .

中国专利 :CN202193839U ,2012-04-18

[7]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

李安和 ;

李春霞 ;

李刚 ;

李晓敏 .

中国专利 :CN222631541U ,2025-03-18

[8]

一种均匀镀膜的镀膜装置 [P].

蒋丽丽 .

中国专利 :CN221371269U ,2024-07-19

[9]

一种提高镀膜均匀性的辅助阳极装置 [P].

陈舟 ;

孙长江 ;

尹霄 .

中国专利 :CN222908118U ,2025-05-27

[10]

一种镀膜材料依附均匀的镀膜装置 [P].

龙何军 .

中国专利 :CN215365958U ,2021-12-31

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