一种镀膜材料依附均匀的镀膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202121867134.5

申请日：

2021-08-10

公开(公告)号：

CN215365958U

公开(公告)日：

2021-12-31

发明(设计)人：

龙何军

申请人：

申请人地址：

528400 广东省中山市火炬开发区敬业路13号的A栋厂房第一层B区

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1450 G02B110

代理机构：

中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327

代理人：

杨连华

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-31	授权	授权

共 50 条

[1]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

贾世荣 .

中国专利 :CN110863178B ,2020-03-06

[2]

一种均匀镀膜的镀膜装置 [P].

蒋丽丽 .

中国专利 :CN221371269U ,2024-07-19

[3]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

李安和 ;

李春霞 ;

李刚 ;

李晓敏 .

中国专利 :CN222631541U ,2025-03-18

[4]

一种镀膜均匀的镀膜装置 [P].

袁小夫 ;

舒本剑 ;

李均平 .

中国专利 :CN222931104U ,2025-06-03

[5]

一种提高镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

龙何军 .

中国专利 :CN215365960U ,2021-12-31

[6]

一种镀膜均匀的马达定子镀膜装置 [P].

罗维恒 .

中国专利 :CN222691561U ,2025-03-28

[7]

一种均匀镀膜的无尘镀膜装置 [P].

黄国兴 ;

万志 .

中国专利 :CN210634242U ,2020-05-29

[8]

一种镀膜均匀的真空镀膜装置 [P].

窦小小 .

中国专利 :CN217378010U ,2022-09-06

[9]

一种镀膜均匀的真空镀膜装置 [P].

宁德 ;

张哲 ;

林铨振 ;

王军 ;

周冬 ;

胡永军 ;

王思达 ;

吴唯 ;

李伟民 ;

杨春雷 ;

徐晗飞 ;

田涵湫 .

中国专利 :CN221797647U ,2024-10-01

[10]

一种镀膜材料均匀沉积的镀膜设备 [P].

陈琳 ;

侯庆艳 ;

张一凡 ;

金小越 ;

庞盼 .

中国专利 :CN119640209A ,2025-03-18

← 1 2 3 4 5 →