衬底支撑基座和应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020581144.8

申请日：

2010-10-28

公开(公告)号：

CN201817546U

公开(公告)日：

2011-05-04

发明(设计)人：

李一成

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路1号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16458 C23C1646

代理机构：

上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249

代理人：

张静洁;徐雯琼

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-04	授权	授权
2017-09-15	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101759288089 IPC(主分类):C23C 16/44 专利号:ZL2010205811448 登记生效日:20170829 变更事项:专利权人变更前权利人:理想能源设备(上海)有限公司变更后权利人:理想耀锐(浙江)能源科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区居里路1号变更后权利人:311100 浙江省杭州市余杭区文一西路1500号1幢411室
2020-11-13	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20101028 授权公告日:20110504

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积设备单晶衬底的支撑结构 [P].

杨庆明 .

中国专利 :CN220300919U ,2024-01-05

[2]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

姜勇 ;

胡建正 ;

郭世平 .

中国专利 :CN120138611A ,2025-06-13

[3]

一种化学气相沉积设备的基座单元 [P].

赵辉 ;

何江文 .

中国专利 :CN216738527U ,2022-06-14

[4]

基座和包括其的化学气相沉积设备 [P].

韩炅燉 .

中国专利 :CN102605347A ,2012-07-25

[5]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

代宇通 ;

姜勇 ;

郭世平 .

中国专利 :CN222139265U ,2024-12-10

[6]

基座、化学气相沉积设备和基板加热方法 [P].

李焘英 ;

林珍永 ;

韩尚宪 ;

金起成 ;

金荣善 ;

金晟泰 .

中国专利 :CN102534562A ,2012-07-04

[7]

基座以及包括该基座的化学气相沉积装置 [P].

金宁基 ;

郑镐壹 ;

高宗万 ;

韩成日 .

中国专利 :CN102286732A ,2011-12-21

[8]

基座及具有该基座的用于化学气相沉积的设备 [P].

李元伸 .

中国专利 :CN102373442A ,2012-03-14

[9]

一种基座及化学气相沉积设备 [P].

傅时梁 ;

姜勇 ;

闫韬 ;

陈恩毅 ;

丛海 .

中国专利 :CN218435945U ,2023-02-03

[10]

用于化学气相沉积腔室的基座支撑组件 [P].

石川哲也 ;

阿拉·莫拉迪亚 ;

卡蒂基扬·巴拉拉曼 ;

沙希坎特·钦纳科沙娃 .

美国专利 :CN119816936A ,2025-04-11

← 1 2 3 4 5 →